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高溫真空爐制作工藝

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高溫真空爐制作工藝

1、常壓真空:常規(guī)真空是以傳統(tǒng)的一步真空方式升溫到高真空溫度保溫一段時(shí)間后,再降溫到室溫來真空陶瓷的方法。對于常規(guī)真空,在不改變真空速率和保溫時(shí)間的情況下,影響陶瓷致密化和晶粒長大的主要因素是素坯的性質(zhì)。采用相同的粉體制備素坯時(shí),成型壓力不同,素坯的結(jié)構(gòu)以及堆積密度也會有較大的差距。當(dāng)壓力過大時(shí),顆粒所受應(yīng)力較大,且顆粒與顆粒之間會相互擠壓,真空時(shí)則容易融合長大。而壓力過小時(shí),獲得的素坯密度較低,且容易出現(xiàn)結(jié)構(gòu)不均勻等現(xiàn)象,導(dǎo)致真空得到的陶瓷致密度較低。     試驗(yàn)機(jī)

2、高溫快速真空:快速真空機(jī)制是通過提高升降溫速率、縮短保溫時(shí)間來獲得高致密且小晶粒尺寸的陶瓷。由于陶瓷致密化所需的激活能遠(yuǎn)小于晶粒長大所需的激活能,且在高溫下陶瓷內(nèi)晶界擴(kuò)散將大量進(jìn)行,因而較高的溫度將會為陶瓷的致密化提供足夠的驅(qū)動力,使致密化更容易進(jìn)行。隨著真空的進(jìn)行,溫度升高會導(dǎo)致晶粒粗化,若真空時(shí)能快速越過表面擴(kuò)散比晶界擴(kuò)散更易進(jìn)行的溫度范圍,致密化將占據(jù)主導(dǎo)地位。

3、控制速率真空:真空真空爐控制速率真空主要控制真空中的升溫速率。陶瓷真空初期有大量開氣孔存在,提高真空初期升溫速率可將開氣孔保留到真空中期,開氣孔可阻止晶界遷移,進(jìn)而在陶瓷致密化過程中抑制晶粒的長大。但用此方法真空陶瓷,需詳細(xì)了解目標(biāo)材料的致密化速率與晶粒長大的關(guān)系才能合理控制真空速率,還需避免長時(shí)間高溫真空導(dǎo)致的晶粒長大。

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